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粗细抛光模式

发布时间:2020/5/4 16:53:57    字体大小:【】【】【

粗细抛光模式

 

 使用抛光机时,最希望提高的就是机器的抛光速率。因为抛光速率会影响在磨光时产生损伤层的深度。在抛光时也要注意不能让抛光损伤层不会影响最终观察到的组织,即不会造成假组织。很多人都碰到这样的问题,如果使用较粗的磨料可以保证抛光速率比较大,但是会造成很深的损伤层。如果使用较细的磨料则可以保证抛光损伤层变得很浅,但是抛光速率就变得很慢。那么这个问题应如何解决呢?
    解决上述问题的最好的办法就是把抛光操作分阶段进行,首先用粗抛去除磨光损伤层,同能提高抛光速率,粗抛形成的表层损伤是次要的考虑,不过也应当尽可能小;其次是精抛(或称终抛),其目的是去除粗抛产生的表层损伤,使抛光损伤减到最小。抛光机抛光时,试样磨面与抛光盘应绝对平行并均匀地轻压在抛光盘上,注意防止试样飞出和因压力太大而产生新磨痕。同时还应使试样自转并沿转盘半径方向来回移动,以避免抛光织物局部磨损太快在抛光过程中要不断添加微粉悬浮液,使抛光织物保持一定湿度。湿度太大会减弱抛光的磨痕作用,使试样中硬相呈现浮凸和钢中非金属夹杂物及铸铁中石墨相产生“曳尾”现象;湿度太小时,由于摩擦生热会使试样升温,润滑作用减小,磨面失去光泽,甚至出现黑斑,轻合金则会抛伤表面。为了达到粗抛的目的,要求转盘转速较低,最好每分钟不要超过600转,抛光时间应当比去掉划痕所需的时间长些,因为还要去掉变形层。粗抛后磨面光滑,但黯淡无光,在显微镜下观察有均匀细致的磨痕,有待精抛消除。

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